特許登録

瀧研究室で開発を続けております多孔ポリイミドの製造方法に関する特許が登録されましたのでご報告申し上げます.

——————————————

発明の名称 多孔質ポリイミド膜の製造方法,多孔質ポリスチレン膜の製造方法,多孔質電極の製造方法及び多孔質電極

登録番号 特許第5867798号

登録日 平成28年1月15日

出願番号 特願2011-119058

出願日 平成23年5月27日

——————————————