業績

瀧准教授が日本鉄鋼協会で発表

日本鉄鋼協会のコークス部会II型研究会の「新規コークス製造プロセス要素技術研究会」の中間報告会として,

「新規なコークス製造プロセスを試行した要素技術の研究」のシンポジウムが大阪大学豊中キャンパスで行われました。

瀧准教授は,研究会の一員として,企業幹事とともに以下の発表を行いました。

13:50-14:30 昇温速度が多孔構造に及ぼす影響のシミュレーション 瀧健太郎(金沢大)

 

瀧准教授と学生が高分子討論会で学会発表

瀧准教授と学生が第65回高分子討論会で2件の依頼講演と1件のポスター発表を行いました。

1. 瀧健太郎, 近藤弘樹, UV硬化過程のケモレオロジカル測定において観測されたゲル化時間とUV強度のスケーリング性, 第65回高分子討論会, 神奈川大学, 2K08, Sep 15 12:55 (2016).
2. 瀧健太郎, UVインクジェット型3Dプリンターの造形精度に及ぼす反応率分布のシミュレーション, 第65回高分子討論会, 神奈川大学, 3U05, Sep 16 10:50 (2016).
3. 林亮太, 瀧健太郎, 多官能モノマーおよび反応性ポリマーにおけるUV硬化反応の速度解析, 第65回高分子討論会, 神奈川大学, 3Pc011, Sep 16 13:20 (2016).

瀧准教授と学生が化学工学会で発表

化学学会 第48回秋季大会にて瀧准教授と学生が研究発表を行いました。

1. 津田郁実, 山田龍偉, 林亮太, 瀧健太郎, 水面上に展開したUV硬化樹脂のナノリンクル生成条件の探索, 化学工学会 第48回秋季大会, 徳島大学, LP225, Sep 7 (2016).
2. 瀧健太郎, 林亮太, UV硬化過程における重合反応速度定数の決定法に関する課題, 化学工学会 第48回秋季大会, 徳島大学, P307, Sep 8 (2016).

瀧准教授がPPS32にて1件の講演を行いました。

瀧准教授が32nd, Annual meeting of Polymer Processing Society にて1件の講演を行いました。また,共同著者として1件の発表も行いました。

Kentaro Taki, Shunsuke Kondo, Hiroshi Ito, Curing and demolding behavior in R2R UV nanoimprint process 32nd, Annual Meeting of Polymer Processing Society, Lyon, OP-S29-325, July 27 (2016).

Hiroto Suenaga, Akira Ishigami, Kentaro Taki, Takashi Inoue, Hiroshi Ito, Engineering Properties and Structure of Reactive Molded Polymers and Its Fiber Reinforced Composites 32nd, Annual Meeting of Polymer Processing Society, Lyon, OP-S17-402, July 27 (2016).

瀧准教授が招待講演

瀧准教授が,高分子学会の16-1 印刷・情報記録・表示研究会 および16-1 光反応・電子用材料研究会 合同研究会にて以下の招待講演を行いました。

6月27日<13:55-14:50> 2) ロールツーロールUVナノインプリントプロセスにおけるプロセス条件が樹脂の反応率、弾性率及び離型性に与える影響
(金沢大理工)瀧 健太郎

 

学会発表

瀧准教授がフォトポリマーコンファレンスで以下の発表を行いました。

1. Kentaro Taki, Takehiro Taguchi, Ryota Hayashi, Hiroshi Ito, Photopolymerization Kinetics of Different Chain Size of Bi-functional Acrylic Monomers using Real Time FT-IR, The 33rd InternationalConference of Photopolymer Science and Technology Materials&Processes for Advanced Microlithography, Nanotechnology and Phototechnology, Makuhari Messe, Chiba, A-15, June 22 (2016).
2. Kentaro Taki, Development of a High-Intensity UV Exposure Apparatus under a High-Pressure CO2 Gas Atmosphere to Manufacture Large-Area Porous Ultralow-k Polyimide Substrates for Flexible Print Circuits, The 33rd InternationalConference of Photopolymer Science and Technology Materials&Processes for Advanced Microlithography, Nanotechnology and Phototechnology, Makuhari Messe, Chiba, A-65, June 23 (2016).

論文

以下の論文が掲載されました。

1. Kentaro Taki, Takehiro Taguchi, Ryota Hayashi, Hiroshi Ito, Photopolymerization kinetics of different chain sizes of bi-functional acrylic monomers using real time FT-IR, Journal of Photopolymer Science and Technology, 29(1), 133-137 (2016).
2. Kentaro Taki, Akira Mizoguchi, Hiroshi Ito, Cover-layring a Porous Polyimide Flexible Print Circuit with a Porous Polyimide Layer, Journal of Photopolymer Science and Technology, 29(3), 459-464 (2016).

学会発表

プラスチック成形加工学会第27回年次大会及びACWにて合計4件の発表を行いました。

1. 瀧健太郎, 溝口晃, 山内雅晃, 炭酸ガスを用いた多孔ポリイミド絶縁層の作製:製造条件が多孔構造と物性に及ぼす影響, 第27回プラスチック成形加工学会, タワーホール船堀, 22-22, June 14 (2016).
2. 杉山武雅, 谷藤眞一郎, 村田隼一, 辻村勇夫, 瀧健太郎, 二軸押出機の充満率測定と理論検証:スクリュ回転数とフィード量の影響, プラスチック成形加工学会第27回年次大会, タワーホール船堀, 37-38, June 15 (2016).
3. 新沼寛司, 瀧健太郎, 高圧露光装置とUV硬化性樹脂によるポリカーボネート樹脂表面への反射防止膜の形成, プラスチック成形加工学会第27回年次大会, タワーホール船堀, 19-20, June 15 (2016).

4. Ryota Hayashi, Kentaro Taki, Kinetic analysis for photo-induced polymerization of multifunctional monomer and reactive polymer, ACW 2016, Sungkyunkwan University, Republic of Korea, 13, May 12 (2016).

国際会議で瀧准教授が発表しました。

ICOMM2016という精密加工に関する国際会議で,瀧准教授が研究発表を行いました。

1. Taki, K. and H. Ito, Numerical Study about Uneven Shrinkage Distribution Caused by Oxygen Inhibtion in 3D UV Printing Process, in ICOMM20162016, UC Irvine: Hilton Orange County/ Airport Conference Center. p. #69, 14:00-15:40.

2. Taki, K., S. Kondo, and H. Ito, Demolding behavior of R2R UV Nanoimprint Process, in ICOMM20162016, UC Irvine: Hilton Orange County/ Airport Conference Center. p. #28, 10:50-12:50.

特許登録

瀧研究室で開発を続けております多孔ポリイミドの製造方法に関する特許が登録されましたのでご報告申し上げます.

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発明の名称 多孔質ポリイミド膜の製造方法,多孔質ポリスチレン膜の製造方法,多孔質電極の製造方法及び多孔質電極

登録番号 特許第5867798号

登録日 平成28年1月15日

出願番号 特願2011-119058

出願日 平成23年5月27日

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