瀧研究室では、解析・モデル化のための測定装置と、ものづくりのための製造装置を所有しています。

成形加工実験室　1F124号室

成形加工実験を行うための40 m²の部屋です．

二軸押出機

東芝機械製　TEM-26SX, L/D = 64, D= 26 mm, サイドフィーダー，ペレタイザ，水槽付き

Low-k-PI(超低誘電損失ポリイミドフィルム)

大面積多孔ポリイミドを短時間で作成可能な高圧露光装置

製品・技術・研究の名称	炭酸ガス雰囲気×紫外線＝高圧露光装置の開発による多孔型超低誘電率膜の製造とFPC
展示の概要	炭酸ガス雰囲気下で強力な紫外線を照射することが可能な高圧露光装置を開発し，従来に比べて短時間で高い空孔率（空隙率）の多孔ポリイミド膜を作製することが可能になった．多孔ポリイミド膜の比誘電率は2以下となり，超低誘電率膜のFPC基板材料として膜上への伝送線路の形成や伝送特性の測定を行った．
コアの技術	高圧炭酸ガス雰囲気下で紫外線の露光が可能な大型装置を開発することで，①炭酸ガスと三級アミンから生成する両性イオンを利用したポリイミドワニス中での相分離を誘起させ，②その過渡的な相分離構造を紫外線硬化で固定化し取り出すことを可能にする技術
特許情報	特願2013-174972, 特願2012-029027, 特願2011-119058
特徴・ポイント	高圧炭酸ガス雰囲気下で紫外線露光が可能な装置とプロセス 5分以下でポリイミドワニスを多孔化でき，その後の熱処理で多孔ポリイミドを作製比誘電率が2以下，平滑でスキン層が薄く，耐熱性（320℃）に富むフレキシブル性に富む
想定されるご提供先・ご提供先へのメリット	比誘電率2以下の超低誘電率膜を必要とされている方炭酸ガス雰囲気下で紫外線を照射してＵＶ硬化や表面改質など試作をされたい方
主な実績	電線メーカーにて回路形成と電線特性の評価を実施音響機器メーカーにて素子の作製と評価株式会社井元製作所　高圧露光装置の設計・製作

真空プレス

熱板寸法　250 x 250

真空度９トール

冷却機能付き

温度範囲　室温～340℃

４F４２４号室（非クリーンルーム仕様のイエロールーム）

分析・解析を行うための部屋です．約80 m²あります．イエローランプとイエローフィルムにより紫外線の実験への影響を排除しています．

フォトレオメータによるUV硬化樹脂の粘弾性評価システム

Anton-Paar社製のMCR-WESPをフォトレオメータとして使用しています．通常のMCR302と異なり，レオメータ下部が空いていますので，様々なセンサーの取り回しが容易です．標準仕様に加えて，紫外線センサー（浜松ホトニクス製）を紫外線のライトガイド付近に設置し，紫外線が照射/消灯されたタイミングと粘弾性の関係を測定できます．暗反応によりどれだけ弾性率が向上するかを実測できる装置です．

UV硬化樹脂の硬化収縮のリアルタイム測定装置

UV硬化樹脂の硬化収縮をリアルタイムで測定することが可能なレーザー変位計を開発・導入しました．この装置では，UV硬化時のフィルムの厚さ変化をリアルタイムで，数十ナノメートルオーダの分解能で測定可能です．測定可能な膜厚は20μm以上です．

主な仕様

レーザー変位計　キーエンス製　LK-H008

高圧水銀ランプ　ExFo製　S2000

型式	LK-H008
設置モード	正反射
基準距離	8mm
測定範囲	±0.5mm
光源	赤色半導体レーザ
	655nm
	クラス1レーザ製品
	0.3mW
スポット径	φ20μm
直線性	±0.05% of F.S.（F.S.=1.0mm）
繰り返し精度	0.005μm（0.001μm）
サンプリング周期	2.55/5/10/20/50/100/200/500/1000μs（9段階可変）
温度特性	0.02％ of F.S./℃（F.S.=1.0mm）