瀧准教授が招待講演

瀧准教授が,高分子学会の16-1 印刷・情報記録・表示研究会 および16-1 光反応・電子用材料研究会 合同研究会にて以下の招待講演を行いました。

6月27日<13:55-14:50> 2) ロールツーロールUVナノインプリントプロセスにおけるプロセス条件が樹脂の反応率、弾性率及び離型性に与える影響
(金沢大理工)瀧 健太郎