１グループ配属学生へ
ようこそ１グループへ！！
教員，１グループのメンバーと顔合わせを行います。
日時：２月２９日（月）１０：００
場所：１Ｃ４１０
全員，参加お願いします。
月: 2016年2月
セミナーご案内
サイエンス＆テクノロジー社主催のセミナーでネイル関連の講演を行います。
新産業！ ジェルネイルの
市場・トレンド・ビジネス事情と材料技術
日時 2016年4月28日 13:00-16:00
場所 東京・品川区大井町 きゅりあん 4F 研修室
http://www.science-t.com/st/cont/id/25013
パンフレットはB160418
瀧
二軸押出機の動画をアップしました。
Libraryに新たに二軸押出機の動画をアップしました。
フライト部とニーダー部での樹脂の流動状態を見ることができます。
特許登録
瀧研究室で開発を続けております多孔ポリイミドの製造方法に関する特許が登録されましたのでご報告申し上げます．
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発明の名称 多孔質ポリイミド膜の製造方法，多孔質ポリスチレン膜の製造方法，多孔質電極の製造方法及び多孔質電極
登録番号 特許第5867798号
登録日 平成28年1月15日
出願番号 特願2011-119058
出願日 平成23年5月27日
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論文掲載
多孔ポリイミドを高圧露光装置を開発して作成する方法に関する論文です．
Kentaro Taki, Hiroshi Ito, Development of a High-Intensity UV Exposure Apparatus under a High-Pressure CO2 Gas Atmosphere to Manufacture Large-Area Porous Ultralow-k Polyimide Substrates for Flexible Print Circuits, Journal of Photopolymer Science and Technology, 28(6), 747-754 (2015).
Abstract
http://doi.org/10.2494/photopolymer.28.747
PDF free for view
https://www.jstage.jst.go.jp/article/photopolymer/28/6/28_747/_pdf