主催 ： (一社)大阪ニュークリアサイエンス協会
日時 ： 2014年9月12日(金) 13:30 ～ 19:00
場所 ： サンエイビル3Ｆ講義室
４.UV硬化プロセスの解析と応用：3Dプリンタ・ナノインプリント・多孔型超低誘電率膜(５０分)
山形大学大学院理工学研究科機械ｼｽﾃﾑ工学専攻 瀧 健太郎
新たなものづくりとして注目されている3Dプリンタや微細構造を連続的に転写可能なロールツーロールUVインプリントプロセスについて、UV硬化樹脂の反応速度論的な観点から解析を行い、プロセス条件と硬化物中の反応率・収縮率の分布や弾性率との関係について最新の研究成果を紹介する。また、新開発した多孔型超低誘電率膜製造プロセスとフレキシブル低誘電率膜のエレクトロニクスへの応用について説明する。